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產(chǎn)品資料
LPCVD化學(xué)氣相沉積工藝爐
簡(jiǎn)介:

英國(guó)Thermco Systems公司成立于1962年,是一家專業(yè)的臥式擴(kuò)散爐、氧化爐、退火爐、合金化爐及LPCVD爐的制造商,根據(jù)基片尺寸以及產(chǎn)量要求的不同,HTR系列可分為大批量生產(chǎn)型5100/5200系列(6英寸)、科研型2400系列(4英寸)/2600系列(6英寸)/2800系列(8英寸)等;可處理4"~10"的基片,每管處理能力分別可達(dá)25片、50片、100片及更多;根據(jù)配置不同的工藝氣源及溫度控制范圍,各型號(hào)的產(chǎn)品均可用于LPCVD、擴(kuò)散及氧化等熱處理反應(yīng)的化學(xué)氣相沉積工藝。

產(chǎn)品詳情
標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體工藝
·LPCVD氮化硅(標(biāo)準(zhǔn)型)
·LPCVD氮化硅(低應(yīng)力型)
·LPCVD斜坡溫度多晶硅
·LPCVD一致晶粒多晶硅
·LPCVD氧化層TEOS(正硅酸乙脂)
·LPCVD VLTO(低溫氧化)
·LPCVD BPSG(硼磷硅玻璃)
· 高溫氧化
· 干法氧化
· 濕法氧化
· 摻雜擴(kuò)散 3-4路液相摻雜管路 ( POCL3 or BBR3)
· 5-6TCAHcl氣路
· 混合氣體退火
· 高溫?zé)峄鼗?/span>
· 低溫退火和合金化
· 高溫驅(qū)入(Drive in

標(biāo)準(zhǔn)LED工藝
·高真空退火(環(huán)境可控)
·低溫合金化/退火

標(biāo)準(zhǔn)PV(太陽(yáng)能)工藝
·濕氧/干氧
·PN結(jié)驅(qū)入
·Forming氣體退火
·氫氣退火
·低溫?zé)崽幚?/span>
·POCl3BBr3 PN結(jié)和槽
·反射氮化膜(ARC Nitride coating

標(biāo)準(zhǔn)MEMS(微機(jī)電)工藝
·低應(yīng)力CVD氮化物
·氧氮化物SIPOS
·厚氧
·TEOS,良好的臺(tái)階覆蓋能力
·多晶硅和摻雜多晶硅
產(chǎn)品留言
標(biāo)題
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