低損傷去膠系統(tǒng) 新式去膠系統(tǒng)的成本已攀升到不合理水平。但Trion已通過兩套價格低廉、緊湊的多功能系統(tǒng)使這一關(guān)鍵問題得到解決：Gemini和Apollo。
利用ICP（電感耦合等離子）、微波和射頻偏置功率， 可以在低溫條件下將難于消除的光刻膠去除。根據(jù)應用要求， 每套系統(tǒng)可以結(jié)合SST-Lightning微波源 （既可靠又沒有任何常見的微波調(diào)諧問題）或ICP技術(shù)。
—刻蝕速率高達6微米/分 —吞吐量高 —等離子損傷低 —自動匹配網(wǎng)絡 —適用于100mm到300mm基片 —設備占地面積小 —價格具競爭性