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產(chǎn)品資料
全自動化等離子系統(tǒng)
簡介：

Trion創(chuàng)建于1989年,是一家反應(yīng)離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商 Trion為化合物半導(dǎo)體、MEMS（微機電系統(tǒng)）、光電器件以及其他半導(dǎo)體市場提供多種設(shè)備。 產(chǎn)品占地面積小、成本低，可靠穩(wěn)定，應(yīng)用于化學(xué)氣相沉積PECVD工藝。
產(chǎn)品詳情

Titan是一套用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的十分緊湊、全自動化、帶預(yù)真空室的等離子系統(tǒng)。

Titan具有反應(yīng)離子刻蝕(RIE)配置、高密度電感耦合等離子沉積(HDICP)或等離子增強型化學(xué)汽相沉積(PECVD)配置?？蓪蝹€基片或帶承片盤的基片(3”-300mm尺寸)進行處理。它還具有多尺寸批處理功能。價格適宜且占地面積小。


刻蝕應(yīng)用：
砷化鎵、砷化鋁鎵、氮化鎵、磷化銦、鋁、硅化物、鉻以及其他要求腐蝕性和非腐蝕性化學(xué)刻蝕的材料。


沉積應(yīng)用：
二氧化硅、氮化硅、氮氧化物和其他各種材料。

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