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非接觸光學(xué)表面測量系統(tǒng)
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MPCVD微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
MPCVD微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
HHV科研用真空鍍膜系統(tǒng)
TF500/600
Auto500GB
Auto500
Auto306
Trion等離子沉積,刻蝕
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LPCVD化學(xué)氣相沉積工藝爐
LPCVD化學(xué)氣相沉積工藝爐
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4900/5700型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
方腔式電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
方腔式電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
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電子束蒸發(fā)設(shè)備BJD/FC-2000
AF8500 自動(dòng)平行封焊機(jī)
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
產(chǎn)品資料
TF500/600
簡介:
HHV TF500及TF600系統(tǒng)設(shè)計(jì)具有可靠工藝能力,可以進(jìn)行
電子束蒸發(fā)
,熱阻蒸發(fā)等物理
氣相沉積
鍍膜。系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件,以符合用戶需求。這兩個(gè)型號(hào)的系統(tǒng)都可以安裝多個(gè)鍍膜源,也都支持離子束處理選項(xiàng)。有一系列預(yù)進(jìn)樣室(Load Lock)和樣品操縱裝置可供選擇,以提高
真空鍍膜
效率。
產(chǎn)品詳情
系統(tǒng)配置不銹鋼真空腔室,高真空泵安裝在腔室后方。工藝附件布局采用可靠設(shè)計(jì),向每個(gè)客戶提供滿意適配化的方案。工藝附件包括熱阻及
電子束蒸發(fā)
源、直流及射頻濺射源、用于工件刻蝕或輔助沉積的離子源。系統(tǒng)可以同時(shí)配置熱阻、電子束及磁控濺射源。濺射系統(tǒng)可以配置成向上或向下濺射的結(jié)構(gòu)。工件臺(tái)選項(xiàng)包括加熱、冷卻、偏壓和預(yù)進(jìn)樣操作等。
系統(tǒng)控制選項(xiàng)包括穩(wěn)定的PLC真空控制系統(tǒng)配合手動(dòng)操作的工藝附件的簡單模式,或者計(jì)算機(jī)集成控制的全自動(dòng)模式。
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